Plazma kimyosi
Manba: ÖzME, 7-jild (2000–2005), «Özbekiston milliy ensiklopediyasi» Davlat ilmiy naşriyoti · elektron nusxa: ziyouz.com kutubxonasi, 243–244-b. — ziyouz.com
Plazma kimyosi PLAZMA KIMYOSI, plazmokimyo — fizikkimyoning past t-rali plazmadagi fizikkimyoviy jarayonlarni, undagi reaksiyalar kinetikasi va me-xanizmini, plazmokimyoviy texnologiya asoslarini örganuvçi bölimi. Fizika nuqtai nazaridan P.k. da qölla-nadigan plazma (termoyadro plazmasiga nisbatan) past t-rali (103—105 K, ionlaniş darajasi 10~6—10^'), kimyo va kimyoviy texnologiya nuqtai nazaridan esa eng yuqori t-rali hisoblanadi. Plazma kimyoda endotermik reaksiyalarni amalga oşiriş yoki issiqqa çidamli materiallar ta'sir etuvçi yuqori t-ra elitkiçlari sifatida işlatiladiNeytral holatda mavjud bölmaydigan köpgina molekulalar ionlaşgan xrlda plazmada böla oladi. P.k.ning texnikada qöllanişi plazma oqimining yuqori t-raga ega bölişiga asoslangan. Plazma oqimi elektr yoyli yoki yuqori çastotali induksion plazmatronlarda olinadi.
P.k.ning eng istiqbolli texnik jarayoni atmosfera azotini töğridan-töğri oksidlaş, metan va b. uglevodorodlarni elektrokrekinglab atsetilen olişdan iborat. Etilen va b. olefinlarni, tetraftoretilen, gidrazin, ditsian, vodorod sianid, trixlorsilan, gidroksilamin, vodorod perok-sid, formaldegid oliş maqsadida ham P.k. jarayonlari örganiladi. P.k.ning maxsus bölimi — plazma metal-lurgiyasida vanadiy, nikel, te-mir, molibden, bor va h.k.ning oksidlari va galogenidlariga vodorod plazmasi ta'sir ettirib, sof elementlar ajratib olinadi.
Metallar sirtida olovbardoş oksid pardalar hosil qiliş yoki polimerlar sirtini tozalaşda kislorod plazmasi oqimi qöllanadi.
P.k. plazma nurlanganda keçadigan fotokimyoviy jarayonlarni ham öz içiga oladi. Bunga ozonning olinişi misol böla oladi, çunki bunda asosiy jarayon kislorod molekulalarini ultrabinafşa nurlar ta'sirida dissotsiatsiyalaşga asoslangan.
Ad.: Polak L. S. [i dr.]. Ximiya plazmi, Novosibirsk, 1991.
Asl matn (kirill, PDF'dagidek)
ПЛАЗМА КИМЁСИ, плазмокимё — физиккимёнинг паст т-рали плазмадаги физиккимёвий жараёнларни, ундаги реакциялар кинетикаси ва ме-ханизмини, плазмокимёвий технология асосларини ўрганувчи бўлими. Физика нуқтаи назаридан П.к. да қўлла-надиган плазма (термоядро плазмасига нисбатан) паст т-рали (103—105 К, ионланиш даражаси 10~6—10^’), кимё ва кимёвий технология нуқтаи назаридан эса энг юқори т-рали ҳисобланади. Плазма кимёда эндотермик реакцияларни амалга ошириш ёки иссиққа чидамли материаллар таъсир этувчи юқори т-ра элиткичлари сифатида ишлатиладиНейтрал ҳолатда мавжуд бўлмайдиган кўпгина молекулалар ионлашган хрлда плазмада бўла олади. П.к.нинг техникада қўлланиши плазма оқимининг юқори т-рага эга бўлишига асосланган. Плазма оқими электр ёйли ёки юқори частотали индукцион плазматронларда олинади.
П.к.нинг энг истиқболли техник жараёни атмосфера азотини тўғридан-тўғри оксидлаш, метан ва б. углеводородларни электрокрекинглаб ацетилен олишдан иборат. Этилен ва б. олефинларни, тетрафторэтилен, гидразин, дициан, водород цианид, трихлорсилан, гидроксиламин, водород перок-сид, формальдегид олиш мақсадида ҳам П.к. жараёнлари ўрганилади. П.к.нинг махсус бўлими — плазма метал-лургиясида ванадий, никель, те-мир, молибден, бор ва ҳ.к.нинг оксидлари ва галогенидларига водород плазмаси таъсир эттириб, соф элементлар ажратиб олинади.
Металлар сиртида оловбардош оксид пардалар ҳосил қилиш ёки полимерлар сиртини тозалашда кислород плазмаси оқими қўлланади.
П.к. плазма нурланганда кечадиган фотокимёвий жараёнларни ҳам ўз ичига олади. Бунга озоннинг олиниши мисол бўла олади, чунки бунда асосий жараён кислород молекулаларини ультрабинафша нурлар таъсирида диссоциациялашга асосланган.
Ад.: Полак Л. С. [и др.]. Химия плазмы, Новосибирск, 1991.
Matn ÖzME'dan o'zgartirişsiz olingan, faqat yozuvi yangi alifboga o'girilgan. Qisqartmalar asl holida. Xato ko'rsangiz — xabar bering.